1989 • In Dalagarno, A.; Freund, R. S.; Lubell, M. S.et al. (Eds.) 16th Internatioanl Conference on the Physics of Electronic and Atomic Collisions: Abstracts of Contributed Papers.
Photoionisation; Synchrotron radiation; Electron impact; Double ionization; (NH3)2+; (CO2)2+
Abstract :
[en] Using synchrotron radiation the double ionization of NH3 and CO2 is measured. The results are compared with those obtained by electron impact.
Research Center/Unit :
Laboratoire de Dynamique Moléculaire
Disciplines :
Chemistry
Author, co-author :
Locht, Robert ; Université de Liège - ULiège > Département de Chimie (Faculté des sciences) > Laboratoire de Dynamique Moléculaire (Sciences)
Servais, Christian ; Université de Liège - ULiège > Département d'astrophys., géophysique et océanographie (AGO) > Groupe infra-rouge de phys. atmosph. et solaire (GIRPAS)
Davister, M.
Denzer, W.
Jochims, H.-W.; Freie Universität Berlin > Institut für Physikalische Chemie
Baumgärtel, H.; Freie Universität Berlin > Institut fûr Physikalische Chemie
Language :
English
Title :
About the Double Ionization of NH3 and CO2. A Comparison between Photoionization and Electron Impact.
Alternative titles :
[fr] La double ionisation de NH3 et CO2. Une comparaison entre la photoionisation et l'impact électronique.
Publication date :
1989
Event name :
16th International Conference on the Physics of Electronic and Atomic Collisions (ICPEAC).
Event organizer :
American Institute of Physics
Event place :
New York, United States
Event date :
26 July-1st August
Audience :
International
Main work title :
16th Internatioanl Conference on the Physics of Electronic and Atomic Collisions: Abstracts of Contributed Papers.
Main work alternative title :
[fr] 16ème Conférence internationale sur la physique des collisions électroniques et atomiques: résumés des contributions.
Author, co-author :
Dalagarno, A.
Freund, R. S.
Lubell, M. S.
Lucatorto, T. B.
Publisher :
AIP, New York, United States
Pages :
61
Peer reviewed :
Peer reviewed
Funders :
FRFC, Bundes Ministerium für Forschung und Technologie
Commentary :
- Printed version of reprint available on request
- Version imprimée du tiré-à-part disponible sur demande
