R. Leghrib, E. Llobet, A. Mansour, H. N. Migeon, J. J. Pireaux, F. Reniers, I. Suarez-Martinez, G. E. Watson, Z. Zanolli, Nanotechnology 2009, 20, 375501.
R. Leghrib, A. Felten, F. Demoisson, F. Reniers, J. J. Pireaux, E. Llobet, Carbon 2010, 48, 3477.
R. Leghrib, A. Felten, F. Demoisson, F. Reniers, J. J. Pireaux, E. Llobet, Procedia Eng. 2010, 5, 385.
R. Leghrib, T. Dufour, F. Demoisson, N. Claessens, F. Reniers, E. Llobet, Sensor. Actuat. B: Chem. 2011, 160, 974.
A. T. Bell, Sciences 2003, 299, 1688.
P. Brault, A. Caillard, A. L. Thomann, J. Mathias, C. Charles, R. W. Bosswell, S. Escribano, J. Durand, T. Sauvage, J. Phys. D: Appl. Phys. 2004, 37, 3419.
M. Cavarroc, A. Ennadjaoui, M. Mougenot, P. Brault, R. Escalier, Y. Tessier, J. Durand, S. Roualdès, T. Sauvage, C. Coutanceau, Electrochem. Commun. 2009, 11, 859.
M. Mougenot, A. Caillard, P. Brault, S. Baranton, C. Coutanceau, Int. J. Hydrogen Energ. 2011, 36, 8429.
C. Coutanceau, P. Brault, A. Caillard, M. Mougenot, S. Baranton, A. Ennadjaoui, M. Cavarroc, ECS Trans. 2011, 41, 1151-1159.
P. Brault, A. Caillard, S. Baranton, M. Mougenot, S. Cuynet, C. Coutanceau, ChemSusChem 2013, 6, 1168.
B. Rajesh, K. R. Thampi, J. M. Bonard, N. Xanthopoulos, H. J. Mathieu, B. Viswanathan, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 2701.
J. Wang, G. Yin, Y. Shao, S. Zhang, Z. Wang, Y. Gao, J. Power Sources 2007, 171, 331.
M. Miyake, T. Ueda, T. Hiroto, J. Electrochem. Soc. 2011, 158, D590.
S. A. Lee, K. W. Park, J. H. Choi, B. K. Kwon, Y. E. Sung, J. Electrochem. Soc. 2002, 149, A1299.
J. R. Vargas Garcia, T. Goto, Mater. Trans. 2003, 44, 1717.
M. J. Cooke, Vacuum 1985, 35, 67.
H. K. Kammler, L. Mädler, S. E. Pratsinis, Chem. Eng. Technol. 2001, 24, 583.
M. Ullmann, S. K. Friedlander, A. Schmidt-Ott, J. Nanopart. Res. 2002, 4, 499.
S. Eliezer, N. Eliaz, E. Grossman, D. Fisher, I. Gouzman, Z. Henis, S. Pecker, Y. Horovitz, M. Fraenkel, S. Maman, Y. Lereah, Phys. Rev. B 2004, 69, 144119.
A. Caillard, P. Brault, J. Mathias, C. Charles, R. W. Boswell, T. Sauvage, Surf. Coat. Technol. 2005, 200, 391.
A. Caillard, C. Coutanceau, P. Brault, J. Mathias, J. M. Léger, J. Power Sources 2006, 162, 66.
P. A. Lin, R. Mohan Sankaran, Angew. Chem. 2011, 123, 11145.
P. A. Lin, A. Kumar, R. Mohan Sankaran, Plasma Process. Polym. 2012, 9, 1184.
D. Q. Yang, E. Sacher, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 4075.
J. Charlier, L. Arnaud, I. Avilov, M. Delgado, F. Demoisson, E. Espinosa, C. Ewels, A. Felten, J. Guillot, R. Ionescu, R. Leghrib, E. Llobet, A. Mansour, H. Migeon, J. J. Pireaux, F. Reniers, I. Suarez-Martinez, G. Watson, Z. Zanolli, Nanotechnology 2009, 20, 0957.
C. Bittencourt, M. Hecq, A. Felten, J. J. Pireaux, J. Ghijsen, M. P. Felicissimo, P. Rudolf, W. Drube, X. Ke, G. Van Tendeloo, Chem. Phys. Lett. 2008, 462, 260.
F. Demoisson, M. Raes, H. Terryn, J. Guillot, H. N. Migeon, F. Reniers, Surf. Interface Anal. 2008, 40, 566.
F. Reniers, F. Demoisson, J. J. Pireaux, Belgium WO/2009/021988, 2009.
N. Claessens, F. Demoisson, T. Dufour, A. Mansour, A. Felten, J. Guillot, J. J. Pireaux, F. Reniers, Nanotechnology 2010, 21, 385603.
D. Merche, T. Dufour, J. Hubert, C. Poleunis, S. Yunus, A. Delcorte, P. Bertrand, F. Reniers, Plasma Process. Polym. 2012, 9, 11-12, 1144-1153.
M. Moravej, R. F. Hicks, Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 469.
J. W. Weidner, V. A. Sethuraman, J. W. Van Zee, Electrochem. Soc. Interface 2003, 12, 4.
O. Antoine, Y. Bultel, P. Ozil, R. Durand, Electrochim. Acta 2000, 45, 4493.
C. D. Wagner, W. M. Riggs, L. E. Davis, J. F. Moulder, G. E. Muilenberg, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy, Parkin Elmer Corporation-Physical Electronics Division, USA 1979.
J. R. Croy, S. Mostafa, H. Heinrich, B. Roldan Cuenya, Catal. Lett. 2009, 131, 21.
N. Vandencasteele, F. Reniers, J. Electron Spectrosc. 2010, 178-179, 394.
S. J. Park, K. S. Cho, S. K. Ryu, Carbon 2003, 41, 1437.
F. Gloaguen, J. M. Leger, C. Lamy, J. Appl. Electrochem. 1997, 27, 1052.
S. Trasatti, O. A. Petrii, J. Electroanal. Chem. 1992, 327, 353.
Z. Jiang, Z. J. Jiang, in Carbon Nanotubes-Growth and Applications, Vol. 24, M. Naraghi, Ed., InTech, USA 2011, p. 566.
M. Laurent-Brocq, N. Job, D. Eskenazi, J.J. Pireaux, Appl. Catal. B: Environ. 2013, 147, 453.
T. Dufour, J. Hubert, P. Viville, C. Y. Duluard, S. Desbief, R. Lazzaroni, F. Reniers, Plasma Process. Polym. 2012, 9, 820.
C. Y. Duluard, T. Dufour, J. Hubert, F. Reniers, J. Appl. Phys. 2013, 113, 093303.
T. Křeneka, P. Ducheka, M. Urbanováb, D. Pokornáb, P. Bezdičkac, I. Jakubecc, M. Polaa, R. Čerstvýa, T. Kováříka, A. Galikovác, J. Polac, Thermochimic. Acta 2013, 566, 92.
N. Job, S. Lambert, M. Chatenet, C. J. Gommes, F. Maillard, S. Berthon-Fabryc, J.-R. Regalbuto, J.-P. Pirard, Catal. Today 150, 2010, 119.
